Triniaeth arwyneb a ddefnyddir yn gyffredin ar heatsink allwthio alwminiwm
Yn gyffredinol, nid yw ymwrthedd cyrydiad wyneb rheiddiadur proffil alwminiwm yn gryf iawn, felly mae angen cynnal triniaeth arwyneb trwy ocsidiad anodig i gynyddu'r ymwrthedd cyrydiad, ymwrthedd gwisgo a harddwch ymddangosiad alwminiwm.
Mae prif broses proses ocsideiddio heatsink proffil alwminiwm fel a ganlyn:
Rhag-drin arwyneb:
Glanhewch wyneb y proffil trwy ddulliau cemegol neu ffisegol i ddatgelu'r matrics pur, er mwyn cael ffilm ocsid artiffisial cyflawn a thrwchus. Gellir cael arwynebau drych neu Matte (Matt) trwy ddulliau mecanyddol hefyd.
Anodizing:
O dan amodau proses penodol, bydd wyneb y proffil alwminiwm yn cael ei anodized i ffurfio ffilm arsugniad trwchus, mandyllog a chryf.
Selio twll:
Mae mandyllau'r ffilm ocsid mandyllog a ffurfiwyd ar ôl anodizing yn cael eu cau, fel bod gwrth-lygredd, gwrth-cyrydu a gwrthsefyll gwisgo'r ffilm ocsid yn cael eu gwella. Mae'r ffilm ocsid yn ddi-liw ac yn dryloyw. Trwy ddefnyddio arsugniad cryf y ffilm ocsid cyn selio'r twll, mae rhai halwynau metel yn cael eu harsugno a'u hadneuo yn y twll ffilm, a all wneud i ymddangosiad proffil alwminiwm ddangos llawer o liwiau heblaw lliw naturiol (arian gwyn), fel du, efydd, melyn euraidd a dur di-staen.
